高端光刻胶国产化空间广阔，受益上市公司梳理

        根据资料显示，光刻胶产品按照下游应用领域分为半导体光刻胶（IC光刻胶）、PCB光刻胶、LCD光刻胶。

其中，半导体光刻胶技术难度最大，其根据曝光波长分为i线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)等，曝光波长越短，适用IC制程工艺越先进。当前，我国半导体光刻胶市场主要由外资企业垄断，国产化程度较低。
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东方财富证券研报表示，日美企业厂商占据国内高端光刻胶市场大部分份额，其中G/I线国产化率10%，高端KrF、ArF国产化率不足5%。一旦断供，国内多家晶圆厂或将面临光刻胶缺货风险。

因此材料端自主可控成为国际大趋势，光刻胶下游客户对供应链安全性的关注度大幅提升，将主动或被动的快速导入国产光刻胶，国内企业迎来高端光刻胶国产替代良机。
中泰电子研报指出，高壁垒、高价值量的半导体核心材料光刻胶是半导体生产的关键材料，其质量和性能直接影响制造产线的良率，高端的KrF光刻胶价格在200万元/吨以上。
浙商证券蒋高振在近期研报中指出，根据SEMI数据显示，2021年全球半导体光刻胶市场中，中国大陆市场保持最快增速，同比增长43.69%。受益于半导体行业技术进步带来的KrF胶和ArF胶单价值量和总需求快速提升，预测国内半导体光刻胶市场有望以高于全球的增速持续增长。

目前，半导体光刻胶市场国内厂商仅有北京科华（彤程新材）、华懋科技（徐州博康）、南大光电、晶瑞电材、容大感光、上海新阳、八亿时空等少数几家。

中泰电子认为，近年国产半导体光刻胶已相继取得突破，产能即将释放。从产品线布局、研发和量产项目进展角度看，北京科华已实现高分辨I线光刻胶，高分辨KrF光刻胶，KrF负性光刻胶，厚膜KrF光刻胶等产品大批量稳定供货（8-12英寸产线）；华懋科技形成销售的KrF光刻胶有13款，并在ArF光刻胶有2款形成销售；上海新阳KrF光刻胶已有订单客户超3家；晶瑞电材KrF光刻胶产线也基本完成建设，23年开始实现量产。
在研方面，南大光电ArF光刻胶已通过客户验证，有少量发货；北京科华与中科院联合承担的国家02专项EUV光刻胶项目已通过国家验收。近日南大光电表示，公司正抓紧ArF光刻胶产品认证和市场拓展工作，争取尽早实现量产。

不过，蒋高振同样提到，当前光刻胶所需的树脂原料仍然大量依赖进口，且光刻胶保质期较短无法大量囤货，因此光刻胶企业同样面临原材料端的风险。此外，光刻胶研发难度较大，后期仍需要考虑研发和导入进度不及预期的问题。
来源：科创板日报